[技术间谍] ② Soulbrain·SKC·SK海力士 'CMP抛光液'技术被整盘窃取……胆大包天的共谋者们

[비즈한국] 技术往往被装在某人的下班背包里，悄无声息地跨越国境。历经数十年积累的研究成果和国家战略技术，就这样被几张打印件、一个USB闪存盘带走，销声匿迹。虽然技术泄露事件每年都会查处数十起，但其全貌往往只露出冰山一角。Biz韩国通过四部曲专题报道《技术间谍》，根据真实案件重现技术泄露的瞬间。

2019年8月X日，中国上海市松江区。

这是一项将工厂、技术和人才整盘迁出的秘密项目。在繁忙的休假旺季凌晨，匆忙登上飞机的Na Seong-do组长和Lee Han-gyeol员工，穿过潮湿的空气，并肩站在一片广阔的厂区内。这是中国半导体材料企业“新光材料”（化名）计划入驻新生产线的工厂。一个将韩国验证过的CMP抛光液技术移植到中国当地的地方。现在，剩下的就是人才了。

Na组长和Lee员工与新光相关人士一起巡视了厂区。研磨设备入驻位置、洁净室分区、废水处理动线、生产线布局，他们逐一进行了核对。“5年后完成多品种生产。”虽然只挂出了蓝图，但工厂和技术其实都还是一片空白。两人主导亲手撰写的商业计划书，将成为这家新设法人的起点。

新光公司欢迎这两人的理由显而易见。Na组长是韩国中坚材料企业A公司的核心人才，曾带领CMP材料开发团队。Lee员工也是掌握实操技术的人手。当时新光公司内部并没有CMP材料技术。买不到技术，就干脆把人连根拔起挖过来。

回到韩国后，两人间隔一周相继离职。离职理由都很平常。一人说是要个人创业，另一人则以家庭原因为借口。

*CMP（化学机械抛光）抛光液：一种将半导体晶圆粗糙表面以纳米为单位磨平的研磨剂。将晶圆紧贴研磨垫并注入抛光液进行平坦化的工艺，是半导体微细化的核心。如果没有结合了工艺、材料、设备的这项技术，就无法精密实现堆叠数十层的半导体电路。

棋局早已在别处展开。所谓的“CMP抛光液项目”。

计划在新光公司旗下建立CMP抛光液制造子公司，将韩国积累的技术和经验拆解后，在中国当地工厂重新组装。2020年生产线完工，2024年实现多品种量产。路线图野心勃勃，连预期的客户公司名称都被提及。这不仅仅是聘用几名人才的项目，更接近于试图将韩国半导体材料产业的切面整体复制。

而处于这个中心的人是Ahn Seong-jun。他是材料专业大企业B公司CMP业务推进团的团长。

一个月后，京畿道水原。

这次是新光公司总裁亲自来到韩国。在新光总裁和销售总监王先生对面，坐着Na组长、Lee员工以及Ahn Seong-jun团长。经过补充修改的商业计划发表材料放在桌上。新光总裁首先向Ahn团长伸出了手。看来他已经知道谁才是这盘棋的操盘手。

Ahn团长不仅是该项目的实操负责人，更是构建整个局面的总设计师。王先生的提议并非首次。在中国当地从事CMP抛光液业务的想法，在过去他担任驻华人员时也曾有过交流，但当时速度和条件都不成熟，仅仅是被搁置的底牌。然而在晋升失利后，情况发生了变化。王先生再次伸出橄榄枝，这次提供了更具体的职位。提议建立当地子公司，并邀请他担任总负责人。

Ahn Seong-jun并非单枪匹马。他比任何人都清楚，单凭自己一人无法完成这件事。

要从零开始制造CMP抛光液，需要三种人：懂配方技术的人、负责设计制造设备和工厂建设的人，以及了解这种抛光液在实际半导体量产线上如何被评估的人。Ahn Seong-jun知道这些拼图分别在哪个公司、哪个部门、谁的手里。于是，他开始一个个将其召集起来。

他首先向B公司的后辈Jeong Do-hyeon伸出了橄榄枝。虽然Jeong先生拒绝了加入，但Ahn团长并没有就此罢手。取而代之，他被引荐了其他公司的选手。就这样，A公司的Na Seong-do组长和Lee Han-gyeol员工被连接进来。简历经由Jeong先生传给Ahn Seong-jun，再传给王先生。商业计划发表材料也沿着同样的路径流转。Na组长发送材料后，由Jeong先生和Ahn Seong-jun审阅修改，修订版再次被传回中国。无论是人、文件还是计划，一切都以Ahn Seong-jun为中心流转。

与此同时，Jeong先生也收集了公司内部资料。那是一份包含CMP抛光液新工厂用地布局、室内平面图、生产线构成、危险物质使用量审查内容的文件。这些信息让新工厂无需从头开始设计。Ahn Seong-jun召集的不仅仅是人，还包括散落在各家公司的设计图、经验，甚至是试错记录。

还缺少最后一块拼图。因为仅靠材料开发和工厂设计，业务无法完成。

需要一位能够将这项技术应用到实际客户工艺中的真正专家。这最后一块拼图就是5年前曾考虑共同创业的Bang Jun-hyeok部长。作为客户公司C社CMP工艺开发团队的一员，他是一位深入了解半导体量产线评估数据的人物。Ahn团长反复劝说他跳槽。人才不足，必须由你来加入才能完成整个蓝图。

2020年4月的一个晚上，Bang部长在家中取出了连接公司服务器的工作手机。他用另一只手拿着的私人手机，拍摄了屏幕上显示的抛光液技术资料。研磨速率、选择比、根据过氧化氢浓度变化的对比数据，这些都是Ahn团长要求的资料。这种泄露方式一直持续到离职前夕。工艺评估资料通过微信传给新光总裁和Ahn团长，而他又将其中一部分转交给Na组长。

那时，项目的轮廓已经基本完成。一个人懂材料，一个人懂工厂，一个人懂客户工艺。而Ahn Seong-jun则是将这三者串联起来的真正设计师。

2020年5月，Ahn Seong-jun就任新光公司CMP抛光液制造子公司的总负责人。头衔是总裁。这是他离开B公司仅仅三个月后。年薪税前200万人民币，持股10%。一年后，Bang Jun-hyeok也以副总裁级别加入。实际收入超过2.5亿韩元，持股5%。

这个项目更像是一起在一人指挥下，将散落在韩国企业内部的技术和人力重新排列的事件。从材料企业A公司抽出了材料开发的碎片，从大企业B公司抽出了工厂设计的碎片，从客户公司C社抽出了工艺评估的碎片。从不同公司流出的技术碎片在中国上海被拼凑起来，就这样，半导体工艺的核心技术似乎从韩国虚妄地流向了中国。

“CMP抛光液”技术泄露事件全貌

本纪实还原了2019年至2021年间，来自Soulbrain357780、SKC011790、SK海力士000660的6名员工共谋，将与半导体平坦化（CMP）相关的国家核心技术及商业秘密泄露至中国的事件。他们在中国半导体材料企业设立制造子公司，推动了将韩国技术和人员整体转移的“CMP抛光液项目”。该事件至今未通过媒体报道等方式被外界所知。

主犯被告人Ahn Seong-jun团长（化名）在晋升落选后，以获得中方200万人民币（约3.8亿韩元）年薪、10%股份及当地法人总裁职位为条件，主导了犯罪。其他共犯也获得了过亿年薪和副总裁职位保证，且被查明在离职前用手机拍摄国家核心技术资料私自携带出境，或利用内部机密报告撰写了针对中国当地的商业计划书。

通过调查机关获取的线报，经过多年调查，案件实体得以揭露。作为国家核心技术持有企业的受害公司，正在采取包括签订公司内部保密协议、禁止使用个人外部存储介质、刷卡出入控制系统、离职时进行安全检查等多方面的安全体系。然而，这些人通过个人邮箱、网络硬盘、微信等可以规避安全监管的路径，像幽灵一样运送资料。

受害公司以此次事件为契机，大幅强化了安全体系。以Soulbrain为例，根据国际安全标准提升了安全级别，并加强了人员安全管理和离职人员安全体系。不仅进行定期的安全审计和监控，还通过技术泄露应对模拟演习，强化了实际防御能力。

在调查过程中，还捕捉到了主犯Ahn先生为逃避调查网，指示共犯在其居住地隐藏存有机密资料的硬盘和打印件的教唆毁灭证据嫌疑。

大田地方法院第12刑事部（审判长Na Sang-hoon）认定，泄露国家核心技术及产业技术是使企业投入的巨大时间和费用付之东流，并对国家产业竞争力造成严重负面影响的重罪。审判部认为，被告人Ahn先生作为整起犯罪的设计者，对共犯具有功能性的支配地位，判处有期徒刑2年6个月。

不过，中国方面的项目未达成最终成功等因素在量刑时被予以考虑。曾担任副总裁的被告人Bang Jun-hyeok部长（化名）被判处有期徒刑2年，缓刑3年；撰写商业计划发表材料的被告人Na Seong-do组长（化名）被判处有期徒刑1年6个月，缓刑2年。其余共犯也根据参与程度分别被判处有期徒刑缓刑及罚金。

业界相关人士强调：“技术泄露不仅超越了个别企业的生存，更是威胁整个材料产业生态系统的重大犯罪。在产业全范围内形成‘技术泄露必定被抓且会受到严厉处罚’的共识，比什么都重要。”