[技术间谍] ⑤ 将国家机密一点点存入中国服务器……窃取半导体技术的“三星人”的终局

[비즈한국] 技术往往被装在某人下班路上的背包里，静悄悄地跨越国境。几十年来积累的研究成果和国家战略技术，就这样被装进几页打印件或USB存储棒中消失了。虽然每年都有数十起技术外泄事件被查获，但全貌往往只露出冰山一角。Bizhankook通过四部曲专题报道《技术间谍》，根据真实案件重构了技术外泄的瞬间。

2022年3月，池洙焕（音）室长正坐在京畿道广州市的一间办公室里审阅项目概要。

这是一个接受中国公司投资、开发炉管（Furnace）设备的项目。炉管设备是半导体制造工艺中，通过原子层沉积（ALD）工艺一层层叠加原子层的核心设备。作为向韩国主要半导体企业供货的高价设备，单台价格高达数十亿韩元。

池室长与中国结缘是在6年前。他在韩国主要半导体企业工作了21年，离职1年后，于2016年前往合肥。作为安徽省省会，合肥是当时中国政府钦点的半导体崛起据点。池室长在那里担任了明微存储（Yuming Memory Tech）的DRAM开发室长。明微是一家打着存储半导体制造商旗号、背靠巨额国家资本成立的公司，堪称中国半导体崛起的象征。

中国亟需自主开发炉管设备的能力。明微的目标是开发17~18纳米DRAM工艺。对于从零开始铺设韩国企业投入数万亿韩元才完成的路径，时间显然不够。

这是一个保守估计也达数百亿韩元的项目。池室长知道捷径。他拿起了电话。

接到电话的人之一是梁大元（音）组长。他曾在韩国某A设备公司担任ALD设备机械设计的负责人。“一起干吧。”建议很直接。随之而来的是高额年薪的提议。他和团队成员南正国（音）加入了。B设备公司的申东植（音）、C设备公司出身的朱镇日（音）也加入了进来。虽然他们来自不同公司，但完成一台设备所需的所有拼图都凑齐了。

机构、电装、工艺。

他们聚集的地方是上海新成立的半导体设备企业——信胜有限责任公司。这是中国投资方“富盛”与池室长方面协商成立的半导体设备开发公司。所开发技术的最终目的地是明微存储。正是6年前池室长担任DRAM开发室长的那家公司。

“信”项目具体化了。池洙焕担任副总经理，梁大元担任机械组长，南正国、朱镇日担任机械组成员，吴成勋（音）担任电装组长。

起初看起来还在划清界限。“不能用韩国的资料。”

但要求变了。“参考一下就行。”

2022年5月的一天晚上，京畿道利川市A设备公司办公室。梁组长把团队成员南正国叫过来，指示打印图纸。打印机开始运转。这是A设备公司从2016年起投入100多亿韩元开发出的ALD设备“Falcon”的模块制造及组装图纸。其中包含了用什么化学物质、在什么温度和压力下、以什么顺序叠加原子层的设计信息。这是A设备公司近10年来积累的核心技术，也是被指定为国家尖端技术的资产。

两人分担着1120页的打印件走出了办公室大门。梁组长的汽车后备箱盖合上了。

外泄不止一次。

梁组长在离职前将资料单独收集起来。130张FIMS单元图纸，3200多个零件的BOM（物料清单）。包含了成本、材质、交易对象等信息的列表。

吴成勋也整理了电装设计。参与项目的人员各自所属的公司里，这项工作都在悄悄重复。资料虽然被拆解成了碎片，但聚在一起就是一台完整的设备。

就在信胜协议敲定后不久。2022年9月，池洙焕在家中开启了NAS服务器。这是一个构建在韩国境内的存储库，只要连接互联网，在任何地方都能访问。这台服务器原本打算作为中国信胜开发团队全员共享的资料仓库。

文件夹的名字很简单，“韩国资料保管”。不仅有用于信胜设备开发的资料，还有6年前在合肥时期就保管的前公司的DRAM工艺资料。那是将韩国半导体公司的工艺流程图用手抄写在笔记本上偷运出来的文件，以及用智能手机拍摄显示器屏幕制成的文件。这些都是被指定为国家核心技术的工艺信息。从A设备公司偷出的图纸也陆续上传。两股资料在同一台服务器内汇合。中国企业所需的技术将通过这条路径传输出去。

2023年1月，上海信胜办公室。

梁组长给外部合作商发了邮件。“这是基于A设备公司的数据。请务必保密。”

南正国以此为基础，重新绘制了信胜设备的图纸。相似的结构，类似的布局。只是名字换了。现在，设备变成了“新开发的”。

内部已经意识到了危险。池洙焕问熟人。

“这会有问题吗。”

在得到回答之前，他其实心里早就有了答案。

他在另一条消息中留下了这样的话。

“小心点，别触犯《产业技术保护法》。”

异常迹象留下了记录。打印记录。文件移动痕迹。电子邮件收发记录。

每一项虽然都是碎片，但连在一起就成了完整的脉络。

国家情报院基于情报捕捉到异常迹象是在2023年春天。检察机关在接到国情院的调查委托后，顺藤摸瓜。获取的资料有一个共同点。

结构相同，排列相似。这根本不是“新做的设计”。

信胜项目停摆了。

半导体工艺及设备技术外泄至中国案件的始末

此纪实内容重构了2016年至2023年间，在三星电子005930和Eugene Technology084370等半导体设备协作企业中发生的技术外泄事件。三星电子前部长、被告A某在2016年跳槽至中国长鑫存储（CXMT）的过程中，窃取了三星电子的DRAM半导体工艺信息；在2021年返回韩国后，自次年起与Eugene Technology前组长等人共谋，窃取了半导体设备协作企业的ALD设备设计技术，企图提供给CXMT。

以组织了与中国投资方合作的半导体炉管设备开发项目的A某为中心，包括Eugene Technology等协作企业的被告们，各自将所属公司在职期间的图纸打印并带出，随后在韩国构建了NAS（网络附加存储）服务器，上传资料并与中国信凯有限责任公司（Xinkai，此处对应文中的信胜）开发团队共享。NAS服务器是为了防止在机场安检时被查出资料而构思的方式。后来，直接购买并构建该服务器的信凯内部人士将服务器资料任意提交给检察机关，成为了调查的突破口。

在调查过程中，还查明了当时三星电子前职员通过将工艺流程图（PRP）手工抄写在笔记本上带出，或用智能手机拍摄显示器屏幕的方式窃取资料的事实。属于30纳米级以下的DRAM设计、工艺、器件技术以及3D堆叠形成技术，是2016年被产业通商资源部指定为国家核心的技术。

在Eugene Technology，也发生了擅自打印并带走1120张ALD设备模块制作及组装图纸，以及包含130张FIMS单元图纸和3200多个零件的成本、材质、交易对象信息的BOM资料被外泄的损失。随后的调查显示，信凯开发团队直接参考了Eugene Technology的图纸，以重新绘制信凯设备设计图的方式利用了该技术。

在审判过程中，一审和二审法院认为共同正犯之间进行商业秘密上传至NAS服务器的行为包含在商业秘密的“使用”之中，因此判定“泄露”指控不成立。但今年年初，大法院裁定商业秘密泄露应视为与使用不同的独立犯罪，将案件发回首尔高等法院重审。这一判断被评价为具有重大意义，因为它明确扩大了对通过NAS服务器或云端等数字路径进行技术共享行为的处罚范围。

发回重审的首尔高等法院刑事10-1部上月23日额外认定泄露指控有罪，判处被告A某有期徒刑6年4个月及罚金2亿韩元。刑期比二审增加了4个月。一同被起诉的Eugene Technology前职员、被告B某也被追加判处有期徒刑3个月。B某此前已因违反《产业技术保护法》等嫌疑被判处2年6个月有期徒刑。

重审审判部指出：“被告的行为使投入到DRAM半导体开发中的巨额时间和成本付诸东流，严重破坏了市场交易秩序，可能对国家竞争力产生负面影响。”并判决称：“不正当获取三星电子的商业秘密并在中国使用，性质极其恶劣，如果对侵害商业秘密犯罪惩处过轻，那么耗费长期时间和资金研发出的技术将失去意义。”

三星电子表示，公司将半导体核心技术视为必须从国家和客户层面进行管理的对象，而非仅限于公司内部。主要技术依据《产业技术保护法》和《国家尖端战略产业法》进行保护，并每年通过定期审计检查安全系统的有效性。此外，还制定了专门的国家核心技术安全管理指南，并设立高管负责制，运行最终审批技术保护措施的体系。包含客户相关信息的邮件通过邮件过滤服务自动拦截发送至外部。在客户信息安全方面，签署保密协议（NDA），仅允许限定的负责人访问。

Eugene Technology相关人士表示：“对于半导体设备企业来说，技术安全与生存直接相关。我们进一步强化了设计图纸的访问权限管理和打印记录监控。技术外泄不仅仅是简单的信息侵权，更是损毁多年研究成果和公司整体竞争力的行为。”